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半導體與器件

美國科學家研發出新型薄膜半導體,電子遷移速度約為傳統半導體 7 倍

發布日期:2024-07-22     412 次

7 月 20 日消息,來自美國麻省理工學院、加拿大渥太華大學等機構的科學家,利用一種名為三元碲鉍礦(ternary tetradymite)的晶體材料研制出一種新型超薄晶體薄膜半導體。

據介紹,這種 " 薄膜 " 厚度僅 100 納米,其中電子的遷移速度約為傳統半導體的 7 倍從而創下新紀錄。這一成果有助科學家研發出新型高效電子設備。相關論文已經發表于《今日材料物理學》雜志(附 DOI:10.1016/j.mtphys.2024.101486)。

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據介紹,這種 " 薄膜 " 主要是通過 " 分子束外延技術 " 精細控制分子束并 " 逐個原子 " 構建而來的材料。這種工藝可以制造出幾乎沒有缺陷的材料,從而實現更高的電子遷移率(即電子在電場作用下穿過材料的難易程度)。

簡單來說,當科學家向 " 薄膜 " 施加電流時,他們記錄到了電子以 10000 cm 2 /V-s 的速度發生移動。相比之下,電子在 " 硅半導體 " 中的移動速度約為 1400 cm 2 /V-s,而在傳統銅線中則要更慢。

這種超高的電子遷移率意味著更好的導電性。這反過來又為更高效、更強大的電子設備鋪平了道路,這些設備產生的熱量更少,浪費的能量更少。

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研究人員將這種 " 薄膜 " 的特性比喻成 " 不會堵車的高速公路 ",他們表示這種材料 " 對于更高效、更省電的電子設備至關重要,可以用更少的電力完成更多的工作 "。

科學家們表示,潛在的應用包括將 " 廢熱 " 轉換成電能的可穿戴式熱電設備,以及利用電子自旋而不是電荷來處理信息的 " 自旋電子 " 設備。

科學家們通過將 " 薄膜 " 置于極寒磁場環境中來測量材料中的電子遷移率,然后通過對薄膜通電測量 " 量子振蕩 "。當然,這種材料即使只有微小的缺陷也會影響電子遷移率,因此科學家們希望通過改進薄膜的制備工藝來取得更好的結果。

麻省理工學院物理學家 Jagadeesh Moodera   表示:" 這表明,只要能夠適當控制這些復雜系統,我們就可以實現巨大進步。我們正朝著正確的方向前進,我們將進一步研究、不斷改進這種材料,希望使其變得更薄,并用于未來的自旋電子學和可穿戴式熱電設備。"


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